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簡要描述:NONSEQUITUR 大束流離子源離子槍ION GUNS: MODEL 1404支持所有惰性氣體外加氮氣,可選氧氣功能,帶Thoria涂層燈絲
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詳細(xì)介紹
品牌 | 其他品牌 | 貨號 | / |
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規(guī)格 | 常規(guī) | 供貨周期 | 一個月 |
主要用途 | 真空表面化學(xué)實驗 |
NONSEQUITUR 大束流離子源離子槍ION GUNS: MODEL 1404
NONSEQUITUR大束流離子源離子槍Model 1404設(shè)計特點:
氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞,帶電粒子束使工作物質(zhì)濺射以及表面電離過程都能產(chǎn)生離子,并被引出成束。根據(jù)不同的使用條件和用途,已研制出多種類型的離子源。使用較廣泛的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎(chǔ)的,常被籠統(tǒng)地稱為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產(chǎn)生離子的,也有廣泛的用途。新型重離子源的出現(xiàn),使重離子的電荷態(tài)顯著提高,其中較成熟的有電子回旋共振離子源(ECR)和電子束離子源(EBIS)。負(fù)離子源性能較好的有轉(zhuǎn)荷型和濺射型兩種。在一定條件下,基于氣體放電過程的各種離子源,都能提供一定的負(fù)離子束流。
離子源是一門具有廣泛應(yīng)用領(lǐng)域的學(xué)科,在許多基礎(chǔ)研究領(lǐng)域如原子物理、等離子化學(xué)、核物理等研究中,離子源都是十分重要的設(shè)備。
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