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詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 進口 |
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應用領域 | 環(huán)保,化工,電子,電氣,綜合 |
瑞士IDONUS 氫氟酸氣相刻蝕機
瑞士IDONUS 氫氟酸氣相刻蝕機產品描述
VPE由反應室和蓋子組成。加熱元件集成在蓋子中。它控制要蝕刻的基板的溫度。晶圓夾持可以通過兩種方式實現:晶圓可以通過使用夾緊環(huán)進行機械夾緊。擰緊是從設備的背面完成的,該背面從不與 HF 蒸汽接觸。3 個螺母易于戴防護手套處理。另一種選擇是靜電夾緊。單個芯片(長度超過 10 毫米)和晶圓可以夾在加熱元件上。晶圓的背面受到保護,不會被蝕刻。
液態(tài)HF被填充到反應室中。反應室用蓋子封閉。HF蒸氣在室溫下產生,蝕刻過程自發(fā)開始。蝕刻速率由晶圓溫度控制,晶圓溫度可在 35°C 至 60°C 之間調節(jié)。 處理后,酸可以儲存在儲液罐中,以便在可密封的容器中重復使用。
液體輸送只需用手柄降低連通儲液罐即可完成。由于重力作用,酸流入儲層,可以通過兩個閥門關閉。通過打開閥門并抬起手柄來重新填充反應室。酸流入反應室。酸可以重新用于多次蝕刻,直到必須更換。
VPE系統(tǒng)占地面積小,可以很容易地集成到現有的流箱中。
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