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簡要描述:Beam Imaging離子槍系統(tǒng)真空組件提供兩種離子槍系統(tǒng)類型聯(lián)系張經理:I872I868549(微信同號)
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品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 綜合 |
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Beam Imaging離子槍系統(tǒng)真空組件
Beam Imaging Solutions (BIS) 提供兩種離子槍系統(tǒng)類型。每個噴槍都包括一個離子源組件、散熱器、加速和聚焦系統(tǒng)、垂直偏轉板、一個 6 英寸長的速度過濾器和一個速度過濾器保護環(huán)控制單元。組件組裝在裝有法蘭的真空外殼中,用于安裝到客戶的設備上。保護環(huán)控制單元可以安裝到標準的 19 英寸機架面板中。如果需要,可以訂購定制法蘭和附加端口。當噴槍需要光束減速器時,包括一個適配器法蘭(型號 G-1-D 和 G-2-D 離子槍)。Beam Imaging 還為上述離子槍系統(tǒng)提供控制單元(E 系列)??刂茊卧ú僮麟x子噴槍所需的所有電源以及用于離子源和真空計控制的冷卻裝置。所有離子束組件也可單獨或成套提供(離子源、散熱器、速度過濾器、提取和聚焦透鏡系統(tǒng))。這些完整的套件稱為離子束套件。
G-1 型可在 500 eV 至 10 keV(可選 20keV)的能量范圍內運行。如果需要小于 500 eV 的離子束能量,我們建議使用 G-1-D 型,其中包括 400 型或 450 型減速器,可以產生能量低至 1 eV 的質量選擇離子束。G-1 系列型號的真空外殼由拋光不銹鋼管制成,直徑為 6 英寸,長約 19 英寸。長度包括 500 型絕緣子安裝法蘭。G-1-D 的總長度為 23 1/8 英寸,與 400 型或 450 型減速器一起使用。兩個離子槍外殼都配有一個 6“ ID 粗加工端口。G-1 和 G-1-D 型的標準出口法蘭是 8 英寸外徑和 6 英寸內徑的同平法蘭。然而,G-1-D 型在與減速器一起使用時有一個 2 3/4 英寸的出口法蘭(僅限 400 型)。G-1 和 G-1-D 型都適合真空至 10-7Torr 的 Var,而不是為 bakeout 設計的。
G-2 和 G-2-D 離子槍均設計為在 500 eV 至 10 keV(可選 20keV)能量范圍內運行。然而,G-2-D 離子槍有可選的 400 型或 450 型減速器,可在低至 1 eV 的電壓下使用。G-1 和 G-2 系列離子槍之間有兩個區(qū)別。G-2 離子槍設計為可烘烤至 200oC,用于超高真空 (UHV) 系統(tǒng)。速度過濾器上的磁線圈封裝在不銹鋼護套中,并采用液體冷卻,因此允許更高的電流和磁場強度。BIS 建議使用 CU-1 冷卻裝置進行磁體和離子源冷卻。G-2 和 G-2-D 的尺寸分別與 G-1 和 G-1-D 相同。G-2 和 G-2-D 的設計都適合真空到 10-9托。
分辨率 | 米/天 米 ~ 400 |
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離子電流 | 高達 20 微安聚焦,100 微安非聚焦 |
離子源 (DC) | 燈絲 16 V – 20 A,陽極 0 – 150 V,0.4 A |
離子源 (RF) | 0-500 瓦,13.56 MhZ |
鏡頭系統(tǒng) | 0 – 10 kV,1 mA 加速電壓,0 – 10 kV,0.5 mA 聚焦電壓 |
垂直偏轉板 | 0 – 400 伏,1mA |
Velocity Filter Magnet | G-1 型:9.5 V,3 A,G-2 型:28 V,14 A 連續(xù)運行 |
速度過濾器偏轉板 | 0 – 350 V, 50 mA (浮動輸出) |
型 | G-1、G-1-D、G-2、G-2-D |
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